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File:EVG 120 resist coater-developer at LAAS 0434.jpg

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原始文件 (3,872 × 2,592像素,文件大小:4.24 MB,MIME类型:image/jpeg


摘要

描述
English: EVG 120 fully automated photoresist coater-developer under inactinic light at LAAS-CNRS technological facility in Toulouse, France.
Français : Machine EVG 120 d'enduction et révélation automatisée de résine photosensible sous lumière inactinique à la centrale de technologie du LAAS-CNRS à Toulouse, France.
日期
来源 自己的作品
作者 Guillaume Paumier (user:guillom)
授权
(二次使用本文件)
Own work, attribution, share-alike: Multi-license with GFDL and Creative Commons CC-BY-SA-3.0
相机位置43° 33′ 47.16″ 北, 1° 28′ 39.36″ 东 Kartographer map based on OpenStreetMap.在以下服务上查看本图像和附近其他图像: OpenStreetMapinfo

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创作作者 简体中文(已转写)

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客体角色 简体中文(已转写):​摄影师 简体中文(已转写)
作者姓名字符串 简体中文(已转写):​Guillaume Paumier
维基媒体用户名 简体中文(已转写):​Guillom

版权状态 简体中文(已转写)

版权所有 简体中文(已转写)

摄影器材 简体中文(已转写)

尼康D200 简体中文(已转写)

文件来源 简体中文(已转写)

上传者的原创作品 简体中文(已转写)

视角坐标 简体中文(已转写)

43°33'47.2"N, 1°28'39.4"E

ISO速度 简体中文(已转写)

400

曝光时间 简体中文(已转写)

0.066666666666667

焦距比数 简体中文(已转写)

3.5

焦距 简体中文(已转写)

18 毫米

数据大小 简体中文(已转写)

4,445,869 字节

2,592 像素

3,872 像素

媒体类型 简体中文(已转写)

image/jpeg

校验和 简体中文(已转写)

499390fe66de7f65aeff647c54a2c29f8ba7ace0

断定方法:​SHA-1 简体中文(已转写)

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日期/时间缩⁠略⁠图大小用户备注
当前2007年11月12日 (一) 09:232007年11月12日 (一) 09:23版本的缩略图3,872 × 2,592(4.24 MB)Guillom==Description== {{Information |Description={{en|EVG 120 fully automated en:photoresist coater-developer under en:inactinic light at fr:LAAS-CNRS technological facility in Toulouse, France.}} {{fr|Machine EVG 120 d'e

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